索尼与ASML今日在东京签署深度技术合作协议，双方将共同投入专项资金研发下一代EUV光刻机的核心投影物镜系统。该项目依托索尼在精密玻璃成型与纳米级镀膜领域的深厚积累，结合ASML的光学系统集成经验，致力于将微缩分辨率推向三点几纳米工艺节点。产业专家指出，突破高端光学元件长期受制于人的局面，将大幅缩短先进制程设备的国产化替代周期，为亚太区半导体制造基地的产能升级提供关键底层支撑。
关键要点
- 双方联合攻关EUV光刻机核心投影物镜系统
- 依托精密玻璃成型技术推演三点几纳米工艺
- 突破光学元件瓶颈加速亚太区制造基地升级
