华创证券援引摩根大通研报指出，阿斯麦计划在2028年将EUV光刻机年产能提升至超110台。该决策主要基于全球AI服务器需求持续爆发及先进制程节点投资大幅增长。产能扩张不仅缓解高端芯片制造瓶颈，也将直接利好国内涂胶显影、离子注入及检测设备等上游厂商。随着晶圆厂扩产潮启动，半导体设备招投标规模有望在四季度迎来显著回升。 关键要点极紫外光刻机年产能将突破一百一十台全球先进制程投资激增带动设备招标回暖国内上游半导体设备厂商迎扩产红利期 返回列表 上一篇 下一篇
