国产AI芯片良率突破百分之九十五大规模量产在即

8月31日，国内领先的AI芯片代工企业正式发布技术白皮书，宣布其基于自研光刻套刻误差补偿算法的七纳米FinFET工艺良率已稳定突破百分之九十五。经过半年的客户端可靠性验证，该工艺完全满足高端大模型训练芯片的严苛标准。目前，相关产线月产能已提升至十万片，预计第四季度将全面转入商业化量产阶段。分析机构测算，仅国内大模型厂商的芯片采购需求便足以消化其全部产能，海外市场授权合作亦在紧锣密鼓推进。良率的实质性突破意味着国产AI算力底座摆脱了对先进制程代工的外依赖，全球半导体供应链格局将面临深度重构。